半導(dǎo)體滾鍍?cè)O(shè)備

是一種于半導(dǎo)體制造中金屬化工藝的精密設(shè)備，主要用于在半導(dǎo)體晶圓、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過(guò)可控的電化學(xué)或化學(xué)鍍工藝，實(shí)現(xiàn)高精度、高一致性的金屬覆蓋，滿(mǎn)足集成電路封裝、先進(jìn)封裝及微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域的特定需求

與傳統(tǒng)滾鍍不同，半導(dǎo)體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導(dǎo)體材料的兼容性。

二、功能

1.金屬互連：在晶圓上形成銅導(dǎo)線(xiàn)。

2.凸塊制備：沉積錫、銅、金等材料，用于芯片與基板的電氣連接。

3.阻擋層/種子層鍍覆：鍍鈦、鉭等材料，防止金屬擴(kuò)散并增強(qiáng)附著力。

三、設(shè)備組成

1.電鍍槽：

材質(zhì)：耐腐蝕材料，避免污染鍍液

鍍液循環(huán)系統(tǒng)：維持鍍液成分均勻，過(guò)濾顆粒雜質(zhì)

2.旋轉(zhuǎn)載具：

晶圓固定裝置：真空吸附或機(jī)械夾持，確保晶圓平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)

轉(zhuǎn)速控制：通過(guò)伺服電機(jī)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速，優(yōu)化鍍層均勻性

3.陽(yáng)極系統(tǒng)：

可溶性/不溶性陽(yáng)極：銅、鉑等材料，依鍍層需求選擇

陽(yáng)極位置調(diào)節(jié)：控制電場(chǎng)分布，減少邊緣效應(yīng)

4.供液與噴淋系統(tǒng)：

多點(diǎn)噴淋頭：均勻分配鍍液至晶圓表面，避免氣泡滯留

流量控制：精確調(diào)節(jié)鍍液流速，匹配不同工藝需求

5.控制系統(tǒng)：

PLC/工控機(jī)：集成溫度、pH值、電流密度等參數(shù)監(jiān)測(cè)與反饋。

配方管理：存儲(chǔ)不同鍍層的工藝參數(shù) 廢水處理設(shè)備分類(lèi)收集含鉻、鎳等廢水，經(jīng)化學(xué)沉淀、離子交換處理，確保重金屬達(dá)標(biāo)排放。真空電鍍?cè)O(shè)備生產(chǎn)線(xiàn)

除油超聲波清洗機(jī)設(shè)備特點(diǎn)：槽體設(shè)計(jì)為全不銹鋼結(jié)構(gòu)，整體美觀大方，采用SUS304/316L不銹鋼板成型，堅(jiān)固耐用。功能完善，安裝簡(jiǎn)單方便，易操作，**可靠。采用質(zhì)量換能器和獨(dú)特發(fā)生器，超聲強(qiáng)勁有力，搭配日本震頭，確保清洗力強(qiáng)且經(jīng)久耐用。配備自動(dòng)溫控加熱裝置，溫控范圍為室溫～100℃。超聲波槽體與發(fā)生器分體，功率、時(shí)間可調(diào)，使用及保養(yǎng)便捷。超聲波頻率可選：28KHZ、40KHZ、68KHZ、80KHZ、120KHZ、135KHZ等。支持按客戶(hù)需求定制規(guī)格尺寸。適用行業(yè)：五金、電鍍、鐘表、眼鏡、玻璃、光電、電子等多行業(yè)的除油除蠟污垢場(chǎng)景。浙江環(huán)保型電鍍?cè)O(shè)備陽(yáng)極裝置分可溶性（如鋅板、銅板）與不溶性（如鉛板），維持電解液金屬離子濃度，保障電鍍反應(yīng)持續(xù)穩(wěn)定。

半導(dǎo)體掛鍍?cè)O(shè)備 1.基本原理與結(jié)構(gòu)

掛鍍工藝：晶圓固定在掛具上，浸入電鍍液，通過(guò)精細(xì)控制電流、電壓及溶液成分，在表面沉積均勻金屬層。

組件：

電鍍槽：耐腐蝕材質(zhì)，配備溫控、循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)，維持鍍液均勻性

掛具與陽(yáng)極：鈦或鉑金陽(yáng)極，掛具設(shè)計(jì)適配晶圓尺寸，確保電場(chǎng)分布均勻

自動(dòng)化傳輸：機(jī)械臂自動(dòng)上下料，減少人工污染風(fēng)險(xiǎn)

控制系統(tǒng)：PLC/計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)調(diào)控電流密度、電鍍時(shí)間、pH值等參數(shù)

2. 關(guān)鍵技術(shù)優(yōu)勢(shì)

高均勻性：通過(guò)脈沖電鍍或水平電鍍技術(shù)（如ECP），減少邊緣效應(yīng)，實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)鍍層均勻性

低缺陷率：鍍液雜質(zhì)控制（＜0.1ppm）與膜厚在線(xiàn)監(jiān)測(cè)，降低孔洞、結(jié)節(jié)等缺陷

高產(chǎn)能：支持多晶圓并行處理

3. 典型應(yīng)用場(chǎng)景 芯片制造：

銅互連：在邏輯芯片中沉積多層銅導(dǎo)線(xiàn)，替代傳統(tǒng)鋁工藝以降低電阻

TSV填充：為3D封裝提供垂直導(dǎo)電通道，實(shí)現(xiàn)芯片堆疊

先進(jìn)封裝：

凸塊電鍍：在晶圓表面形成錫、銅柱凸塊，用于Flip-Chip鍵合

RDL（重布線(xiàn)層）：沉積銅層實(shí)現(xiàn)芯片I/O端口的重新布局

總結(jié)

半導(dǎo)體掛鍍?cè)O(shè)備通過(guò)精密電化學(xué)控制與自動(dòng)化技術(shù)，解決了納米級(jí)金屬沉積的均勻性與可靠性難題，是先進(jìn)芯片制造與封裝的裝備。其性能直接關(guān)聯(lián)芯片的導(dǎo)電性、散熱及良率

陽(yáng)極氧化線(xiàn)是專(zhuān)門(mén)用于金屬表面陽(yáng)極氧化處理的成套生產(chǎn)線(xiàn)，通過(guò)電化學(xué)方法在金屬（如鋁、鋁合金、鎂合金、鈦合金等）表面生成一層致密、多孔的氧化膜（如Al?O?），以提升工件的耐腐蝕性、耐磨性、絕緣性或裝飾性。它是氧化生產(chǎn)線(xiàn)中常用的類(lèi)型，在于利用外加電源使金屬作為陽(yáng)極發(fā)生氧化反應(yīng)，形成與基體結(jié)合牢固的氧化膜層。

陽(yáng)極氧化線(xiàn)的原理（電化學(xué)氧化）原理：

將金屬工件（如鋁）作為陽(yáng)極，浸入電解液（如硫酸、草酸、鉻酸溶液）中，接通直流電源后，陽(yáng)極發(fā)生氧化反應(yīng)：

陽(yáng)極（金屬）：2Al+3H2O→Al2O3+6H++6e?（以鋁為例）

陰極（惰性電極，如鉛板、不銹鋼）：6H++6e?→3H2↑

反應(yīng)生成的氧化膜（Al?O?）緊密附著在金屬表面，初始膜層多孔，可通過(guò)后續(xù)處理（如染色、封孔）賦予更多功能。

膜層特性：多孔結(jié)構(gòu)（孔徑約10~20nm），膜厚可控（從幾微米到200μm以上），硬度高（HV300~500），絕緣性?xún)?yōu)異（電阻率達(dá)10?~10??Ω?cm）。 無(wú)氰電鍍?cè)O(shè)備配套活化劑與絡(luò)合劑，替代傳統(tǒng)含氰工藝，在保障鍍層質(zhì)量的同時(shí)提升**性。

電鍍前處理廢氣設(shè)備有哪些？

集氣罩：根據(jù)前處理設(shè)備形狀、廢氣散發(fā)特點(diǎn)定制，如槽邊側(cè)向集氣罩等，可高效收集廢氣，常見(jiàn)材質(zhì)有 PP 等耐腐蝕材料 。

通風(fēng)管道：多選用耐腐蝕的 PP 材質(zhì)，用于連接抽風(fēng)設(shè)備各部件，將廢氣輸送至處理設(shè)備，其設(shè)計(jì)需考慮廢氣流量、阻力等因素 。

引風(fēng)機(jī)：常安裝在輸送通道出風(fēng)口處，為廢氣的抽取和輸送提供動(dòng)力 ，可根據(jù)實(shí)際需求選擇不同規(guī)格和性能的引風(fēng)機(jī)。 

此外，一些抽風(fēng)裝置還可能配備過(guò)濾處理箱、活性炭吸附網(wǎng)板等，用于對(duì)廢氣進(jìn)行初步過(guò)濾、吸附，減少大顆粒雜質(zhì)等對(duì)風(fēng)機(jī)的損害 。 刷鍍?cè)O(shè)備通過(guò)手持導(dǎo)電筆局部涂覆電解液，適用于機(jī)械零件磨損修復(fù)或特殊形狀工件的局部電鍍。江西貴金屬電鍍?cè)O(shè)備

鍍銅設(shè)備的陽(yáng)極磷銅板定期活化處理，維持表面活性，穩(wěn)定銅離子濃度，保障鍍層沉積速率。真空電鍍?cè)O(shè)備生產(chǎn)線(xiàn)

超聲波清洗設(shè)備在精密電鍍中的應(yīng)用：

超聲波清洗機(jī)通過(guò)高頻振動(dòng)提升前處理效果。設(shè)備采用28kHz與40kHz雙頻組合技術(shù)，既能去除大面積油污，又能深入盲孔和微縫隙清潔。精密模具廠在鍍前處理中引入超聲波清洗，使鍍層結(jié)合力從3N/cm提升至5N/cm，漏鍍率下降70%。設(shè)備配備循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)，將清洗液中固體顆?？刂圃?μm以下，延長(zhǎng)藥液使用壽命。在貴金屬電鍍中，超聲波輔助化學(xué)除油可減少50%的氫氧化鈉用量，降低廢水處理負(fù)荷。通過(guò)優(yōu)化清洗時(shí)間和功率參數(shù)，該設(shè)備適用于手機(jī)外殼、航空緊固件等高精度工件的預(yù)處理。 真空電鍍?cè)O(shè)備生產(chǎn)線(xiàn)